Článek na iDnes - vybavenost aplikační laboratoře společnosti LINTECH
Potřebujete laserově svařit určité druhy plastů, kovů, gravírovat laserem do hloubky nebo jen označit Vaše výrobky firemním logem? Tyto a mnoho dalších aplikací jsme pro Vás schopni testovat v naší aplikační laboratoři.
Velké množství společností se na nás obrací s prosbou o ověření proveditelnosti laserové aplikace v naší bohatě vybavené aplikační laboratoři LINTECH. V tabulce níže je uveden seznam vybavení naší aplikační laboratoře, abyste se sami mohli přesvědčit o tom, jak kvalitně máme laboratoř vybavenou a co vše Vám můžeme nabídnout.
Inženýr, který testování v aplikační laboratoři LINTECH provádí, je zkušený odborník s mnohaletou praxí v oboru aplikace laserových technologií v průmyslu. Jeho pracovní náplní není pouze samotné vyhotovení testovaných vzorků, ale dále i analýza rizik dané aplikace a případný prvotní návrh technického řešení.
Na základě těchto faktů se naprostá většina testovaných aplikací, včetně následné kontroly kvality, provádí přímo ve společnosti LINTECH. Pro ladění procesu a kontrolu výsledků používáme širokou škálu specializovaných zařízení od digitálního mikroskopu s možností měření profilu až po verifikátory čárových kódů.
Vzhledem k zastoupení mnoha různých typů laserových zdrojů a souvisejících komponent, jsme schopni odladit konkrétní laserovou aplikaci co nejefektivněji dle požadavků zákazníka. Během procesu ladění je aplikační inženýr v úzkém kontaktu se zákazníkem a cesta k požadovanému výsledku vede skrz postupnou optimalizaci. Správně odladěná laserová aplikace od specialistů ze společnosti LINETCH následně může přinést zefektivnění výroby a další s tím spojené pozitivní jevy jako např.:
- snížení procesního času
- zvýšení výrobních kapacit
- eliminace chyb lidského faktoru
- rozšíření automatizace výrobního procesu
Na základě poznatků z provedených testů je zhotoven výstup ve formě protokolu vzorku. Tento protokol obsahuje výsledky testované aplikace společně s fotodokumentací, analýzu zjištěných rizik vztahujících se k procesu testované aplikace a doporučené varianty laserových systémů od společnosti LINTECH.
Vybrané technické řešení může být ovlivněno různými aspekty, jakými například jsou výsledný design, rychlost procesu či finanční možnosti daného zákazníka. V praxi se často jedná o kompromis všech zmíněných aspektů.
V případě dotazů neváhejte kontaktovat naše technicko-obchodní poradce.
Pro testování disponujeme těmito laserovými zdroji:
Typ laseru | Režim | Výkon (W) | Vlnová délka | Kvalita svazku | Frekvenční rozsah | Délka pulsu | Max. energie pulsu |
Vláknový | Pulsní | 20 | 1064 nm | M2 < 1,3 | 1 - 1000 kHz + CW režim | 3 - 500 ns | > 0,7 mJ |
20 | M2 < 1,6 | 1 - 1000 kHz + CW režim | 3 - 500 ns | > 1 mJ | |||
50 | M2 < 1,6 | 1 - 1000 kHz + CW režim | 3 - 500 ns | > 1 mJ | |||
70 | M2 < 1,6 | 1 - 1000 kHz + CW režim | 3 - 500 ns | > 1 mJ | |||
100 | M2 < 1,6 | 1 - 4166 kHz + CW režim | 3 - 2000 ns | > 1,3 mJ | |||
Quasikontinuální | 150 | BPP < 2,5 | 0 - 50 kHz + CW režim | 0,05 - 50 ms | > 15 J | ||
Quasikontinuální | 300 | BPP < 2,5 | 0 - 50 kHz + CW režim | 0,05 - 50 ms | > 30 J | ||
Kontinuální | 500 | M2 < 6,5 | CW režim, mod. fr. režim < 10 kHz | - | - | ||
Krystalový | Pulsní | 1,5 | 532 nm | M2 < 1,2 | 10 - 100 Hz | 0,7 - 3 ns | > 0,1 mJ |
10 | 1064 nm | M2 < 1,6 | 10 - 100 Hz | 7 - 50 ns | > 0,8 mJ | ||
CO2 | Kontinuální | 50 | 10600 nm | M2 = 1,3 | CW režim, mod. fr. režim < 50 kHz | - | - |
150 | M2 = 1,3 | CW režim, mod. fr. režim < 50 kHz | - | - |
Se zdroji používáme následující vychylovací a strojní hlavy a objektivy:
Typ hlavy |
Označení | Vlnová délka | |||||
Vychylovací | SCANcube III | 1064 nm | |||||
basiCube 10 | 1064 nm | ||||||
hurrySCAN 20 | 1064 nm | ||||||
SCANcube III 14 | 532 nm | ||||||
SCANcube 14 | 10600 nm | ||||||
Technologická | FiberMini | 1064 nm | |||||
Lintech | 10600 nm | ||||||
Přeostřovací optika | varioSCAN 20 | 1064 nm |
Typ objektivu | Varianty | Vlnová délka | |||||
F-theta | 100 (telecentrický), 100, 160, 210, 254, 290, 330, 420, 600 | 1064 nm | |||||
100 (telecentrický), 100, 160, 254 | 532 nm | ||||||
150, 300, 600 | 10600 nm |